1. 適用済みジェネレータを選択します。

   参考： プロジェクトにジェネレータを追加する方法について詳しくは、ジェネレータを追加するを参照してください。

2. 「ジェネレータ」インスペクタでパラメータコントロールを調整します。

   各ジェネレータに固有のコントロールについて詳しくは、イメージジェネレータの概要またはテキストジェネレータの概要を参照してください。

「Motion」のほかのイメージレイヤーと同様に、オンスクリーン変形ハンドルを使って、適用済みジェネレータに基本的な変形調整（サイズを変更したり、歪めたり、アンカーポイントを変更したりなど）を適用できます。これらの基本的な変形パラメータへの変更は、「情報」インスペクタに反映されます。一部のジェネレータには固有のオンスクリーンコントロールが用意されています（通常は、「中心」または「オフセット」パラメータを調整するもの）。ツールバーで「項目を調整」ツールを選択することで有効にします。たとえば、「らせん描画」ジェネレータには、らせん描画ツールの固定子（リング）と回転子（歯車）をシミュレートするためのコントロールがあります。これらの変更はジェネレータのインスペクタに反映されます。変形ツールについて詳しくは、キャンバスでレイヤーの情報を変形するを参照してください。

1. 「レイヤー」リスト、「タイムライン」、またはキャンバスでジェネレータを選択します。

2. ツールバーで、2D 変形ツールのポップアップメニューをクリックしたまま、「項目を調整」ツールを選択します。

   

   参考： ジェネレータにオンスクリーンコントロールがない場合、「項目を調整」ツールは使用できません。

   キャンバスの中央に、ジェネレータに応じて「中心」オンスクリーンコントロールまたは「オフセット」オンスクリーンコントロールが表示されます。

3. キャンバスで、「中心」コントロールまたは「オフセット」コントロールを新しい位置にドラッグします。

   

   それに応じて「ジェネレータ」インスペクタの「オフセット」または「中心」パラメータが調整されます。

   ヒント： 変形関連のジェネレータパラメータ（中心や角度など）は、「情報」インスペクタからではなく、常にオンスクリーンコントロール（または「ジェネレータ」インスペクタにあるコントロール）を使用して調整してください。これは、「情報」インスペクタにあるこれらに相当するコントロールを使用すると、ジェネレータが再サンプリングされ、出力の品質が低下するからです。

   「オフセット」および「中心」パラメータについて詳しくは、イメージジェネレータのコントロールの説明を参照してください。

ほとんどのジェネレータでは静的なイメージが作成されますが、ジェネレータのパラメータをアニメートして時間経過に従って動くテクスチャを作成できます。

1. 「レイヤー」リスト、キャンバス、または「タイムライン」で、アニメートしたいジェネレータを選択します。

2. アニメーションを開始したいフレームに再生ヘッドを移動してから、A キーを押してキーフレームアニメーションの記録をオンにします。

3. 「ジェネレータ」インスペクタで、またはオンスクリーンコントロールを使って（使用可能な場合）、ジェネレータパラメータを調整します。

   パラメータにキーフレームが追加されます。

4. 次のキーフレームを作成したいフレームに再生ヘッドを移動してから、またジェネレータパラメータを調整します。

5. プロジェクトを再生します（スペースバーを押します）。

   ジェネレータパラメータをアニメートすることで、キーフレームに基づいてテクスチャが動いて変化します。結果に満足できたら、A キーをもう一度押してキーフレームの記録をオフにします。

   参考： キーフレームの設定について詳しくは、キーフレーミングの概要を参照してください。

「Motion」のほかのオブジェクトと同様に、「基本モーション」、「パラメータ」、または「シミュレーション」の各ビヘイビアをジェネレータに適用することができます。下の例では、「ランダム」パラメータビヘイビアを適用して「スター」ジェネレータの不透明度をランダム化し、瞬く星を作成します。

1. 「スター」ジェネレータをプロジェクトに追加して、「ジェネレータ」インスペクタを表示します。

2. 「ジェネレータ」インスペクタで、「スパイク不透明度」パラメータ行の右側にポインタを移動します。

   アニメーションメニュー（下向きの矢印）が表示されます。

3. 「スパイク不透明度」パラメータのアニメーションメニューをクリックし、「パラメータビヘイビアを追加」＞「ランダム化」と選択します。

   

   パラメータビヘイビアの「ランダム化」が「スパイク不透明度」パラメータに適用され、「ランダム化」パラメータを調整できるように「ビヘイビア」インスペクタが表示されます。

   

4. 「ビヘイビア」インスペクタで、「量」スライダを右にドラッグしてランダム化エフェクトを増量します。

5. トランスポートコントロール（キャンバスの下）で、「再生」ボタンをクリックします（またはスペースバーを押します）。

   パラメータビヘイビアの「ランダム化」が「スター」のスパイクの不透明度に適用されたので、星が瞬いているように見えます。「パラメータ」ビヘイビアをジェネレータのパラメータに適用すると、「ジェネレータ」インスペクタで、影響を受けるパラメータの行にビヘイビア・アイコン（歯車の印）が表示されます。この例では、「スパイク不透明度」のパラメータ行にビヘイビア・アイコンが表示されます。

   

6. 瞬きのエフェクトを大きくしたり小さくしたりするには、「ランダム化」パラメータ（「ビヘイビア」インスペクタにあります）を調整します。「ジェネレータ」インスペクタから「ランダム化」パラメータにジャンプするには、Control キーを押しながら「スパイク不透明度」のパラメータ名をクリックして、ショートカットメニューから「ランダム化」を選択します。

   

   「ランダム化」ビヘイビアなどの「パラメータ」ビヘイビアの使いかたについて詳しくは、ランダム化を参照してください。

ほかのオブジェクトと同様に、ジェネレータもパーティクルセルのソースとして使うことができます。次の例では「ソフトグラデーション」ジェネレータを使います。パーティクルシステムの柔軟性を向上させ、コンピュータの処理負荷を下げるには、「ジェネレータ」インスペクタでジェネレータを小さくします。

1. 「ソフトグラデーション」ジェネレータをプロジェクトに追加します。

   

2. HUD または「ジェネレータ」インスペクタで「半径」の値を小さくします。

   この例では「半径」の値を 40 に設定しています。

   

3. 「幅」と「高さ」の値を小さくします。

   キャンバスで、グラデーションと境界ボックスが縮小されます。

   

4. グラデーションを選択したまま、以下のいずれかの操作を行います：

   • E キーを押します。

   • ツールバーで「パーティクルを作成」ボタンをクリックします。

     

   エミッタをプロジェクトに追加すると、新しいエミッタオブジェクトが「レイヤー」リストで選択され、ソースオブジェクト（「ソフトグラデーション」ジェネレータ）の複製が新しいパーティクルシステムのエミッタセルになり、元のソースオブジェクト（「ソフトグラデーション」ジェネレータ）が無効になります。

   

   キャンバスにエミッタの境界ボックスが表示されます。この境界ボックスは、オンスクリーンコントロールまたは「インスペクタ」のコントロールを使って変形できます。パーティクルはキャンバスの元のオブジェクトと同じ位置に表示されます。パーティクルが選択されているように見えますが、選択されているのは、エミッタの境界ボックスです。

5. スペースバーを押してプロジェクトを再生します。

   ソフトグラデーションのパーティクルが放出されます。

   

   「エミッタ」インスペクタまたは HUD でパーティクルの色、エミッタのシェイプ、調整、放出角度、発生量などを変更できます。パーティクルの操作について詳しくは、パーティクルの概要を参照してください。